Reference number
ISO 12406:2010
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International Standard
ISO 12406:2010
Surface chemical analysis — Secondary-ion mass spectrometry — Method for depth profiling of arsenic in silicon
Edition 1
2010-11
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No disponible en español
Publicado (Edición 1, 2010)
Esta publicación se revisó y confirmó por última vez en 2021. Por lo tanto, esta versión es la actual.

ISO 12406:2010

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Resumen

ISO 12406:2010 specifies a secondary-ion mass spectrometric method using magnetic-sector or quadrupole mass spectrometers for depth profiling of arsenic in silicon, and using stylus profilometry or optical interferometry for depth calibration. This method is applicable to single-crystal, poly-crystal or amorphous silicon specimens with arsenic atomic concentrations between 1 x 1016 atoms/cm3 and 2,5 x 1021 atoms/cm3, and to crater depths of 50 nm or deeper.

Informaciones generales

  • Estado
     : Publicado
    Fecha de publicación
     : 2010-11
    Etapa
    : Norma Internacional confirmada [90.93]
  • Edición
     : 1
    Número de páginas
     : 13
  • Comité Técnico :
    ISO/TC 201/SC 6
    ICS :
    71.040.40 
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