Résumé
PrévisualiserThis document specifies a method for the quantitative depth profiling of amorphous heavy metal oxide ultrathin films on Si substrates using medium energy ion scattering (MEIS).
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État actuel: PubliéeDate de publication: 2022-06
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Edition: 1
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- ICS :
- 71.040.40 Méthodes d'analyse chimique
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