Reference number
ISO 23170:2022
© ISO 2024
International Standard
ISO 23170:2022
Surface chemical analysis — Depth profiling — Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering
Edition 1
2022-06
Preview
Indisponible en français
Publiée (Edition 1, 2022)

ISO 23170:2022

Langue
Format
CHF 151
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Résumé

This document specifies a method for the quantitative depth profiling of amorphous heavy metal oxide ultrathin films on Si substrates using medium energy ion scattering (MEIS).

Informations générales

  • État actuel
     : Publiée
    Date de publication
     : 2022-06
    Stade
    : Norme internationale publiée [60.60]
  • Edition
     : 1
  • Comité technique :
    ISO/TC 201/SC 4
    ICS :
    71.040.40 
  • RSS mises à jour

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