Тезис
This Technical Report gives guidelines for measuring the sputtered depth in sputtered depth profiling. The methods
of sputtered depth measurement described in this Technical Report are applicable to techniques of surface
chemical analysis when used in combination with ion bombardment for the removal of a part of a solid sample to a
typical sputtered depth of up to severalmicrometres.
Общая информация
-
Текущий статус: ОтозваноДата публикации: 2001-06Этап: Отмена международного стандарта [95.99]
-
Версия: 1
-
Технический комитет :ISO/TC 201/SC 4ICS :71.040.40
- RSS обновления
Жизненный цикл
-
Сейчас
-
00
Предварительная стадия
-
10
Стадия, связанная с внесением предложения
-
20
Подготовительная стадия
-
30
Стадия, связанная с подготовкой проекта комитета
-
40
Стадия, связанная с рассмотрением проекта международного стандарта
-
50
Стадия, на которой осуществляется принятие стандарта
-
60
Стадия, на которой осуществляется публикация
-
90
Стадия пересмотра
-
95
Стадия, на которой осуществляется отмена стандарта
-
00
-
Пересмотрен
ОпубликованоISO/TR 15969:2021