Reference number
ISO 17331:2004
International Standard
ISO 17331:2004
Surface chemical analysis — Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
Edition 1
2004-05
Preview
ISO 17331:2004
32983
недоступно на русском языке
Опубликовано (Версия 1, 2004)
Последний раз этот публикация был пересмотрен в  2019. Поэтому данная версия остается актуальной.
В данный стандарт внесены 1 поправка.

ISO 17331:2004

ISO 17331:2004
32983
Язык
Формат
CHF 96
Пересчитать швейцарские франки (CHF) в ваша валюта

Тезис

ISO 17331:2004 specifies chemical methods for the collection of iron and/or nickel from the surface of silicon-wafer working reference materials by the vapour-phase decomposition method or the direct acid droplet decomposition method.

It applies to iron and/or nickel atomic surface densities from 6 times 10 to the power 9 atoms per square centimetre to 5 times 10 to the power 11 atoms per square centimetre.

Общая информация

  •  : Опубликовано
     : 2004-05
    : Подтверждение действия международного стандарта [90.93]
  •  : 1
  • ISO/TC 201
    71.040.40 
  • RSS обновления

 Изменения

Поправки принимаются, когда обнаруживается, что в существующий документ по стандартизации необходимо добавить новый материал. В них также могут быть включены редакционные или технические исправления, которые необходимо внести в существующий документ.

Amendment 1

Версия 2010

ISO 17331:2004/Amd 1:2010
51406
Язык
Формат
CHF 18
Пересчитать швейцарские франки (CHF) в ваша валюта

Жизненный цикл

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ