ISO 17331:2004
2004-05
недоступно на русском языке
Тезис
ISO 17331:2004 specifies chemical methods for the collection of iron and/or nickel from the surface of silicon-wafer working reference materials by the vapour-phase decomposition method or the direct acid droplet decomposition method.
It applies to iron and/or nickel atomic surface densities from 6 times 10 to the power 9 atoms per square centimetre to 5 times 10 to the power 11 atoms per square centimetre.
Общая информация
-
Текущий статус: ОпубликованоДата публикации: 2004-05Этап: Подтверждение действия между-народного стандарта [90.93]
-
Версия: 1
-
Технический комитет :ISO/TC 201ICS :71.040.40
- RSS обновления
Изменения
Поправки принимаются, когда обнаруживается, что в существующий документ по стандартизации необходимо добавить новый материал. В них также могут быть включены редакционные или технические исправления, которые необходимо внести в существующий документ.
Amendment 1
Версия 2010
Жизненный цикл
-
Сейчас
ОпубликованоISO 17331:2004
Стандарт, который пересматривается каждые 5 лет
Этап: 90.93 (Подтверждено)-
00
Предварительная стадия
-
10
Стадия, связанная с внесением предложения
-
20
Подготовительная стадия
-
30
Стадия, связанная с подготовкой проекта комитета
-
40
Стадия, связанная с рассмотрением проекта международного стандарта
-
50
Стадия, на которой осуществляется принятие стандарта
-
60
Стадия, на которой осуществляется публикация
-
90
Стадия пересмотра
-
95
Стадия, на которой осуществляется отмена стандарта
Изменения
Содержат дополнительные материалы; Доступны для приобретения; Не включены в текст действующего стандарта.ОпубликованоISO 17331:2004/Amd 1:2010
-
00
Появились вопросы?
Ознакомьтесь с FAQ
Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)