ISO 14606:2015
Surface chemical analysis — Sputter depth profiling — Optimization using layered systems as reference materials
Reference number
ISO 14606:2015
Версия 2
2015-12
© ISO 2024
В время отменен
Отозвано (Версия 2, 2015)

Тезис

ISO 14606:2015 gives guidance on the optimization of sputter-depth profiling parameters using appropriate single-layered and multilayered reference materials in order to achieve optimum depth resolution as a function of instrument settings in Auger electron spectroscopy, X-ray photoelectron spectroscopy and secondary ion mass spectrometry.

ISO 14606:2015 is not intended to cover the use of special multilayered systems such as delta doped layers.

Общая информация

  • Текущий статус
     : Отозвано
    Дата публикации
     : 2015-12
    Этап
    : Отмена международного стандарта [95.99]
  • Версия
     : 2
  • Технический комитет :
    ISO/TC 201/SC 4
    ICS :
    71.040.40 
  • RSS обновления

Жизненный цикл

Цели в области устойчивого развития

Данный стандарт разработан для достижения следующих Цели в области устойчивого развития

7
Недорогостоящая и чистая энергия
9
Индустриализация, инновации и инфраструктура

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

Работа с клиентами
+41 22 749 08 88

Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)

  2. Интернет-магазин
  3. Каталог стандартов
  4. МКС
  5. 71
  6. 71.040
  7. 71.040.40
  8. ISO 14606:2015