International Standard
ISO 23170:2022
Surface chemical analysis — Depth profiling — Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering
Reference number
ISO 23170:2022
Версия 1
2022-06
© ISO 2024
International Standard
Предпросмотр
недоступно на русском языке
Опубликовано (Версия 1, 2022)

ISO 23170:2022

Формат
Язык
CHF 151
Пересчитать швейцарские франки (CHF) в ваша валюта

Тезис

This document specifies a method for the quantitative depth profiling of amorphous heavy metal oxide ultrathin films on Si substrates using medium energy ion scattering (MEIS).

Общая информация

  • Текущий статус
     : Опубликовано
    Дата публикации
     : 2022-06
    Этап
    : Опубликование международного стандарта [60.60]
  • Версия
     : 1
  • Технический комитет :
    ISO/TC 201/SC 4
    ICS :
    71.040.40 
  • RSS обновления

Жизненный цикл

Цели в области устойчивого развития

Данный стандарт разработан для достижения следующих Цели в области устойчивого развития

9
Индустриализация, инновации и инфраструктура
7
Недорогостоящая и чистая энергия

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

Работа с клиентами
+41 22 749 08 88

Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)

  2. Интернет-магазин
  3. Каталог стандартов
  4. МКС
  5. 71
  6. 71.040
  7. 71.040.40
  8. ISO 23170:2022