недоступно на русском языке
Текущий статус : Опубликовано
Формат Язык
PDF + ePub
Бумажный
  • CHF40
Пересчитать швейцарские франки (CHF) в ваша валюта

Тезис

This document defines general terms and film growth processes for atomic layer deposition (ALD). ALD technique is classified into conventional time separated ALD and spatial ALD according to the separation between sequential surface reactions of precursors on substrate. Besides planar substrate, ALD can be used for coating on micro-nano particles, which is developed as powder ALD. Some energy enhanced ALD techniques are also included. This document specifies the processes of different ALD methods.

This document applies to the process of ALD. This document does not apply to the deposited materials or specific nanostructures.

This document applies to industrial production, scientific research, teaching, publishing and scientific and technological communications related to ALD.

Общая информация

  • Текущий статус
     : Опубликовано
    Дата публикации
     : 2023-10
    Этап
    : Опубликование международного стандарта [60.60]
  • Версия
     : 1
  • Технический комитет :
    ISO/TC 107
  • RSS обновления
Standard first page

Preview 

Предварительно ознакомьтесь с этим стандартом в нашем Он-лайн библиотека стандартов (OBP)

Жизненный цикл

Цели в области устойчивого развития

Данный стандарт разработан для достижения следующих Цель устойчивого развития

9
Индустриализация, инновации и инфраструктура

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

Работа с клиентами
+41 22 749 08 88

Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)

  2. Интернет-магазин
  3. Каталог стандартов
  4. МКС
  5. 01
  6. 01.040
  7. 01.040.25
  8. ISO 8181:2023