Reference number
ISO 8181:2023
© ISO 2024
International Standard
ISO 8181:2023
Atomic layer deposition — Vocabulary
Edition 1
2023-10
Preview
недоступно на русском языке
Опубликовано (Версия 1, 2023)

ISO 8181:2023

Язык
Формат
CHF 42
Пересчитать швейцарские франки (CHF) в ваша валюта

Тезис

This document defines general terms and film growth processes for atomic layer deposition (ALD). ALD technique is classified into conventional time separated ALD and spatial ALD according to the separation between sequential surface reactions of precursors on substrate. Besides planar substrate, ALD can be used for coating on micro-nano particles, which is developed as powder ALD. Some energy enhanced ALD techniques are also included. This document specifies the processes of different ALD methods.

This document applies to the process of ALD. This document does not apply to the deposited materials or specific nanostructures.

This document applies to industrial production, scientific research, teaching, publishing and scientific and technological communications related to ALD.

Общая информация

  • Текущий статус
     : Опубликовано
    Дата публикации
     : 2023-10
    Этап
    : Опубликование международного стандарта [60.60]
  • Версия
     : 1
  • Технический комитет :
    ISO/TC 107
  • RSS обновления

Жизненный цикл

Цели в области устойчивого развития

Данный стандарт разработан для достижения следующих Цель устойчивого развития

9
Индустриализация, инновации и инфраструктура

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

  2. Интернет-магазин
  3. Каталог стандартов
  4. МКС
  5. 01
  6. 01.040
  7. 01.040.25
  8. ISO 8181:2023