ISO 17109:2022
2022-03
Тезис
This document specifies a method for the calibration of the sputtered depth of a material from a measurement of its sputtering rate under set sputtering conditions using a single- or multi-layer reference sample with layers of the same material as that requiring depth calibration. The method has a typical accuracy in the range of 5 % to 10 % for layers 20 nm to 200 nm thick when sputter depth profiled using AES, XPS and SIMS. The sputtering rate is determined from the layer thickness and the sputtering time between relevant interfaces in the reference sample and this is used with the sputtering time to give the thickness of the sample to be measured. The determined ion sputtering rate can be used for the prediction of ion sputtering rates for a wide range of other materials so that depth scales and sputtering times in those materials can be estimated through tabulated values of sputtering yields and atomic densities.
Общая информация
-
Текущий статус: ОпубликованоДата публикации: 2022-03Этап: Опубликование международного стандарта [60.60]
-
Версия: 2
-
Технический комитет :ISO/TC 201/SC 4ICS :71.040.40
- RSS обновления
Жизненный цикл
-
Ранее
ОтозваноISO 17109:2015
-
Сейчас
-
00
Предварительная стадия
-
10
Стадия, связанная с внесением предложения
-
20
Подготовительная стадия
-
30
Стадия, связанная с подготовкой проекта комитета
-
40
Стадия, связанная с рассмотрением проекта международного стандарта
-
50
Стадия, на которой осуществляется принятие стандарта
-
60
Стадия, на которой осуществляется публикация
-
90
Стадия пересмотра
-
95
Стадия, на которой осуществляется отмена стандарта
-
00
