Reference number
ISO 17331:2004
ISO 17331:2004
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International Standard
ISO 17331:2004
Surface chemical analysis — Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
Edition 1
2004-05
2004-05
ISO 17331:2004
32983
Publicado
(Edición 1, 2004)
Esta publicación se revisó y confirmó por última vez en 2019.
Por lo tanto, esta versión es la actual.
Esta norma tiene 1 modificaciones.
Resumen
ISO 17331:2004 specifies chemical methods for the collection of iron and/or nickel from the surface of silicon-wafer working reference materials by the vapour-phase decomposition method or the direct acid droplet decomposition method.
It applies to iron and/or nickel atomic surface densities from 6 times 10 to the power 9 atoms per square centimetre to 5 times 10 to the power 11 atoms per square centimetre.
Informaciones generales
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Estado: PublicadoFecha de publicación: 2004-05Etapa: Norma Internacional en proceso de revisión sistemática [90.20]
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Edición: 1Número de páginas: 18
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Comité Técnico :ISO/TC 201ICS :71.040.40
- RSS actualizaciones
Modificaciones
Las enmiendas se emiten cuando se decide que puede ser necesario agregar nuevo material a un documento de normalización existente. También pueden incluir correcciones editoriales o técnicas que deban aplicarse al documento existente.
Amendment 1
Edición 2010
ISO 17331:2004/Amd 1:2010
51406
CHF
18
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Ciclo de vida
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Ahora
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Preliminar
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10
Propuesta
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20
Preparación
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30
Comité
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40
Consulta
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50
Aprobación
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60
Publicación
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90
Revisión
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95
Retirada
Modificaciones
Aportan contenido adicional; disponible para su compra; no incluidas en el texto de la norma existente.PublicadoISO 17331:2004/Amd 1:2010
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