Reference number
ISO 17331:2004
© ISO 2024
International Standard
ISO 17331:2004
Surface chemical analysis — Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
Edition 1
2004-05
Preview
недоступно на русском языке
Опубликовано (Версия 1, 2004)
Последний раз этот публикация был пересмотрен в  2019. Поэтому данная версия остается актуальной.
В данный стандарт внесены 1 поправка.

ISO 17331:2004

Язык
Формат
CHF 96
Пересчитать швейцарские франки (CHF) в ваша валюта

Тезис

ISO 17331:2004 specifies chemical methods for the collection of iron and/or nickel from the surface of silicon-wafer working reference materials by the vapour-phase decomposition method or the direct acid droplet decomposition method.

It applies to iron and/or nickel atomic surface densities from 6 times 10 to the power 9 atoms per square centimetre to 5 times 10 to the power 11 atoms per square centimetre.

Общая информация

  • Текущий статус
     : Опубликовано
    Дата публикации
     : 2004-05
    Этап
    : Систематический пересмотр международного стандарта [90.20]
  • Версия
     : 1
  • Технический комитет :
    ISO/TC 201
    ICS :
    71.040.40 
  • RSS обновления

 Изменения

Поправки принимаются, когда обнаруживается, что в существующий документ по стандартизации необходимо добавить новый материал. В них также могут быть включены редакционные или технические исправления, которые необходимо внести в существующий документ.

Amendment 1

Версия 2010

Язык
Формат
CHF 18
Пересчитать швейцарские франки (CHF) в ваша валюта

Жизненный цикл

Цели в области устойчивого развития

Данный стандарт разработан для достижения следующих Цели в области устойчивого развития

7
Недорогостоящая и чистая энергия
9
Индустриализация, инновации и инфраструктура

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

  2. Интернет-магазин
  3. Каталог стандартов
  4. МКС
  5. 71
  6. 71.040
  7. 71.040.40
  8. ISO 17331:2004