недоступно на русском языке

Тезис

 Предпросмотр

ISO 17331:2004 specifies chemical methods for the collection of iron and/or nickel from the surface of silicon-wafer working reference materials by the vapour-phase decomposition method or the direct acid droplet decomposition method.

It applies to iron and/or nickel atomic surface densities from 6 times 10 to the power 9 atoms per square centimetre to 5 times 10 to the power 11 atoms per square centimetre.


Общая информация 

  • Текущий статус
     :  Published
    Дата публикации
     : 2004-05
  • Версия
     : 1
  • Технический комитет
     : ISO/TC 201 Surface chemical analysis
  • ICS
     :
    71.040.40 Chemical analysis

Цели в области устойчивого развития

Данный стандарт разработан для достижения следующих Цели в области устойчивого развития:

7
Недорогостоящая и чистая энергия
9
Индустриализация, инновации и инфраструктура

Приобрести данный стандарт

Формат Язык
PDF
Бумажный
  • CHF92

Жизненный цикл


Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

Работа с клиентами
+41 22 749 08 88

Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)

Будьте в курсе актуальных новостей ИСО

Подписывайтесь на наши новости, обзоры, а также на информацию о продуктах.

  2. Интернет-магазин
  3. Каталог стандартов
  4. МКС
  5. 71
  6. 71.040
  7. 71.040.40
  8. ISO 17331:2004